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芝加哥艺术学院

School of the Art Institute of Chicago

  • 地址:美国伊利诺伊州芝加哥市南沃巴什大街36号
  • 优势专业: 插画设计|多媒体设计|摄影
  • 语言要求:TOEFL: 本:82 研:80  IELTS: 6.5
  • 申请截止日期:早申:11月15日 常规:1月15日
  • 申请难度:困难
雪城大学

Syracuse University

  • 地址:Syracuse, New York, US
  • 优势专业: 建筑设计|插画设计|陶艺|雕塑|版画
  • 语言要求:TOEFL: 本科85, 研究生100  IELTS: 本科6.5,研究生7.5
  • 申请截止日期:早申:11月15日 常规:1月1日
  • 申请难度:一般
圣路易斯华盛顿大学

Washington University in St. Louis

  • 地址:St. Louis, Missouri, US
  • 优势专业: 平面设计
  • 语言要求:TOEFL: 90  IELTS: 7.0
  • 申请截止日期:1月15日
  • 申请难度:容易
加利福尼亚艺术学院

California College of the Arts

  • 地址:San Francisco&Oakland, California, US
  • 优势专业: 工业设计|交互设计|平面设计|纯艺术
  • 语言要求:TOEFL: 本80 研100  IELTS: 本6.5 研7.5
  • 申请截止日期:2月1日
  • 申请难度:一般
卡内基梅隆大学

Carnegie Mellon University

  • 地址:宾夕法尼亚州匹兹堡
  • 优势专业: 工业设计|交互设计|多媒体设计|平面设计
  • 语言要求:TOEFL: 102  IELTS: 7.5
  • 申请截止日期:早申:11月1日 常规:1月1日
  • 申请难度:困难
普林斯顿大学

Princeton University

  • 地址:美国新泽西州普林斯顿市
  • 优势专业: 建筑设计|平面设计|摄影
  • 语言要求:TOEFL: 100  IELTS: N/A
  • 申请截止日期:1月1日
  • 申请难度:一般
罗德岛大学

University of Rhode Island

  • 地址:美国罗德岛州金斯顿市
  • 优势专业:
  • 语言要求:TOEFL: 80  IELTS: 6.5
  • 申请截止日期:2月1日、11月1日
  • 申请难度:困难

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